支持实验内容：

（1）光刻机设备的基本操作实验

实验目的：熟悉光刻机的开机、对准、曝光、图像化设计等基本操作流程及注意事项。

（2）多类型光刻图形设计实验

实验目的：利用光刻系统的图形化设计功能，设计线条、形状、转角、异形等各类图形，通过试验了解光刻机的图像化转移工艺。

（3）匀胶工艺对光刻胶厚度影响实验

实验目的：通过试验光刻胶类型、胶量、匀胶速度、时间等工艺参数，了解匀胶工艺对光刻胶厚度的影响。

（4）胶的厚度对光刻图形的影响实验

实验目的：通过试验光刻胶类型、厚度等参数，了解胶的厚度对光刻后的图形质量的影响。

（5）坚膜工艺对光刻图案的影响实验

实验目的：通过试验前烘和后烘的温度、时间等工艺参数，了解过烘、正常、欠烘等工艺对光刻图形质量的影响。

（6）曝光工艺对光刻图案的影响实验

实验目的：通过试验曝光时间、剂量等参数，了解过曝光、正常曝光、欠曝光等工艺对图形质量的影响。

（7）显影工艺对光刻图案的影响实验

实验目的：通过试验显影时间、温度等参数，了解过显、正常、欠显等工艺对图形质量的影响。