本设备为通用标准型蒸发式光学真空镀膜设备，加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，可对基材进行真空镀膜，支持光学、半导体工艺教学和科研过程。设备构合理、抽速大、工作周期短、生产效率高、操作方便，能耗低、工作稳定，且膜层均匀、成膜质量好等优点。主要用于各类AR膜、AF膜、冷光膜、滤光片、高反膜、ITO透明导电材膜等镀制。
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OTKO-1550I蒸发式镀膜机 |
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设备型号 |
OTKO-1550I |
真空系统 |
扩散泵+双级旋片泵+罗茨泵+ POLYCOLD |
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真空室内腔尺寸 |
1550*1600（mm） |
蒸发源 |
双枪+固定阻蒸 |
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晶控 |
MXC-3B+6探头 |
空载恢复真空 |
2.0 ×10-3Pa <15min |
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空载极限真空 |
8.0 ×10-5Pa （空载24小时） |
选件 |
RF离子源/霍尔源 |
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加热温度 |
<300℃ |
设备自重 |
7T |
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设备电源 |
380V50Hz交流 |
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真空室内腔尺寸、泵组可以可根据用于需求配置 |
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苏州工业园区仁爱路99号D115室
