OTKS-900I磁控溅射镀膜机-通用型磁控溅射镀膜机-欧泰克测控技术(苏州)有限公司
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    OTKS-900I磁控溅射镀膜机

    本设备为通用型的自动真空磁控溅射设备,可对基材进行真空溅射镀膜,除了溅射金、银、铂、铬、铝等金属材料和氧化物,并保证良好粘附性,并能适应每天24小时不间断的运行方式。

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    本设备为通用型的自动真空磁控溅射设备,可对基材进行真空溅射镀膜,除了溅射金、银、铂、铬、铝等金属材料和氧化物,并保证良好粘附性,并能适应每天24小时不间断的运行方式。

    OTKS-900I磁控溅射镀膜机

    设备型号

    OTKS-900I

    空载恢复真空

    2×103Pa10min

    靶源

    圆靶/矩形靶/柱靶

    设备电源

    380V50Hz交流

    靶位数

    2-3

    工作托盘调速

    转速030rpm,径向跳动<±1mm

    靶尺寸

    6英寸(可选)

    设备压缩空气

    气压0.4~0.6MPa

    靶材尺寸

    φ150mm@6英寸靶

    高压力自清洗机

    轰击电压1000-2500V可调可(选配)

    工作托盘

    <φ200mm的圆片

    环境温度

    1035

    真空室内腔尺寸

    900*700mm

    相对湿度

    不大于80%

    溅射源

    DC电源/MF电源/RF电源(13.56MHz

    设备自重

    3.0T

    真空系统

    分子泵+双极旋转片泵

    控制

    PLC半自动/全自动

    空载极限真空

    8.0 ×10-5Pa  (空载24小时)

    设备冷却水

    工业软水或循环水源,使用水压0.20.4Mpa,最高水压<0.45 Mpa;水量>20L/min,水温18-25℃。

    靶尺寸,靶位数,真空室内腔尺寸可根据用于需求配置

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