刻蚀工艺实验室方案-刻蚀工艺验室方案-欧泰克测控技术(苏州)有限公司
  • 光刻工艺实验室
  • 溅射工艺实验室
  • 刻蚀工艺验室方案
  • 芯片封装测试实验室
  • Stewart运动控制平台教学方案
  • 光学结构与系统定制开发方案
  • 刻蚀工艺验室方案

    支持实验内容:

    1)刻蚀设备的基本操作实验

    实验目的:熟悉刻蚀设备的开机、清洗、温湿度、换气、夹具固定、腐蚀液、腐蚀时间等基本操作流程及注意事项。

    2)多种刻蚀图形的设计实验

    实验目的:利用光刻工艺设计好需要刻蚀的结构图形,通过刻蚀工艺制备各类型硅刻蚀结构。基于光刻系统设计线条、形状、倒角等图形,通过刻蚀工艺了解各类硅孔结构制备工艺。

    3)不同晶型对刻蚀图形的影响实验

    实验目的:通过试验不同晶型、不同衬底等参数,了解刻蚀工艺对刻蚀图形的影响。

    4)不同介质层对刻蚀工艺的影响实验

    实验目的:通过试验光刻胶、介质膜、厚度等参数,了解不同介质层对刻蚀图形的影响。

    5)不同环境参数对刻蚀工艺的影响实验

    实验目的:通过试验不同温度、湿度、时间等参数,了解不同环境参数对刻蚀图形的影响。

    6)倒角结构对刻蚀图形的影响实验

    实验目的:通过设计三角、直角、异形等倒角结构参数,了解倒角结构对刻蚀图形的影响。


    刻蚀效果图

     

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